你好，光刻机，也被称为掩模对准曝光机、曝光系统和光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，将掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

根据用途，光刻机可以分为多种类型。例如，有用于生产芯片的光刻机，有用于封装的光刻机，还有用于LED制造领域的投影光刻机。在高端的投影式光刻机中，又分为步进投影和扫描投影光刻机两种，其分辨率通常在七纳米至几微米之间。

光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。

光刻机的主要性能指标包括支持基片的尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

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