业内认为，稀贵金属薄膜是在电子信息产业起核心支撑作用的战略性材料，溅射靶材是制备薄膜的关键材料源，溅射靶材已成为制备集成电路的核心材料之一。

　　据媒体报道，昆明贵金属研究所下属的云南省贵金属材料重点实验室研发团队，近期在电子信息产业用稀贵金属溅射靶材的关键制备技术及工程化应用研究中取得重大突破，成功研发出系列稀贵金属溅射靶材。

　　业内认为，稀贵金属薄膜是在电子信息产业起核心支撑作用的战略性材料，溅射靶材是制备薄膜的关键材料源，溅射靶材已成为制备集成电路的核心材料之一。据预测，未来5年，世界溅射靶材的市场规模将超过160亿美元。此次我国稀贵金属溅射靶材制备问世，打破在日本、美国、德国等国家长期垄断地位，实现了替代进口并出口至美国著名半导体公司，国内溅射靶材企业的成长空间被打开。

　　相关上市公司：

　　贵研铂业(11.73 +0.09%,诊股)：半导体器材镍铂靶材制备关键技术实现重大突破，建成了年产1000片镍铂靶产品示范生产线，产品出口至美国。

　　江丰电子(47.41 +1.96%,诊股)：是全球高纯金属溅射靶材领先企业。