首先要提醒咱们,光刻胶行业受技术迭代速度、下游半导体周期、政策导向影响极大,估值波动风险较高,盲目追高容易踩坑。
1. 核心估值逻辑:以技术壁垒和成长空间为核心,高端光刻胶(如ArF、EUV)因研发难度大、国产化率低,成长预期强的企业估值会偏高;中低端光刻胶则看产能规模和成本控制,成熟型企业估值更偏向业绩兑现能力。
2. 行业标准参考:主要看三大指标,一是技术指标(分辨率、光刻精度等是否达到下游客户要求),二是客户认证情况(是否进入头部半导体厂商供应链),三是产能达产率(能否稳定供应满足下游需求),符合这些标准的企业估值更有支撑。
3. 常用测算方法:成长型未盈利企业多用市销率(PS),参考同赛道企业的PS区间对比;盈利且增速稳定的企业用市盈率(PE)或PEG(市盈率相对盈利增长比率),比如专注高端光刻胶的企业因获头部客户认证,PEG可给到12-18倍;成熟企业可结合现金流折现法测算长期价值。
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发布于1小时前 深圳



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